株式会社日立制作所, 上海交通大学:“纳米晶钕铁硼磁体及其制备方法”发明专利授权

文摘   2024-11-22 09:02   北京  

    根据稀土专利动态,2024-11-08由株式会社日立制作所, 上海交通大学申请的“纳米晶钕铁硼磁体及其制备方法”(发明专利)获得授权。该专利发明人为董强;夏贤爽;张澜庭;刘梅,申请日期为2019-07-12,申请号为CN201910629057.0。

    本发明提供一种纳米晶钕铁硼磁体及其制备方法,其中,制备方法包括如下步骤:提供主相合金粉体,所述主相合金粉体按原子百分比组成为RxFe(100‑x‑y‑z)MyBz,其中,R为Nd、Ce、Pr中一种或几种,M为Co、Ga、Cu、Al中的一种或几种,12≤x≤15,0.1≤y≤8,4≤z≤8;提供晶界相合金粉体,所述晶界相合金粉体按原子百分比组成为NdaFe(100‑a‑b‑c)GabCuc,其中,55≤a≤65,15≤b≤25,0≤c≤10;将所述主相合金粉体与所述晶界相合金粉体混合均匀,得到混合粉体;对所述混合粉体进行热压烧结,得到热压块体;将所述热压块体进行热变形处理,使其中晶粒发生取向,得到所述纳米晶钕铁硼磁体,其中,所述纳米晶钕铁硼磁体中的晶粒尺寸为150nm‑250nm。根据本发明的纳米晶钕铁硼磁体,具有更好的高温磁性能,且制备方法简单易行。


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