● 2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛将于12月27日在苏州召开● 华润微、上海光源、徐州博康、冠石科技、国科天骥、欣奕华、润晶科技、长飞石英、Linx Consulting、晶测芯材等领衔作报告随着半导体产业的发展，国内在光掩模版和光刻胶高端产品的技术与产能方面具有巨大的发展空间。2018年至2022年，全球半导体掩模版市场规模从40.4亿美元增长至49亿美元，年复合增长率达到4.9%。预计到2024年，市场规模将继续增长至53亿美元。中国大陆在光掩模版领域的需求持续上升，但在技术和产能方面与国际领先水平仍存在差距。高端光掩模版的国产化率仅为3%，大量高端产品依赖进口。此外，光掩模电子束蚀刻等关键设备的交付延迟，严重影响了光掩模的生产进度和产量。Photronics、大日本印刷（DNP）和日本凸版印刷（Toppan）三家公司占据了全球80%以上的市场份额。国内生产光掩模的主要龙头企业包括济南泉意、广州新锐、迪思微电子、中微掩模、龙图光罩等。2022年，全球光刻胶市场规模同比增长7.5%，达到近23亿美元。预计2021年至2026年期间，半导体光刻胶市场的年复合增长率为5.9%，其中应用于EUV和KrF的光刻胶增长最快。中国光刻胶市场规模也在快速增长，预计2024年中国光刻胶市场规模将达到114亿元。目前，国内晶圆制造中使用的光刻胶仍以进口为主，尤其是在8英寸和12英寸产线上使用的先进光刻胶，有90%以上依赖进口。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛将于2024年12月27日在苏州举行，由亚化咨询主办。此次会议将汇聚半导体行业的领军企业、技术专家、学者和行业分析师，聚焦光掩模版及光刻胶在中国乃至全球半导体产业链中的关键作用，共同探讨掩模版及光刻胶产业的发展前景、最新技术进展、面临的挑战和未来趋势。
名称：2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛
时间：2024年12月27日
地点：江苏苏州
主办：亚化咨询
12月26日
16:00~20:00 会议注册
12月27日
09:00~12:00 演讲报告
12:00~14:00 自助午餐与交流
14:00~18:00 演讲报告
18:00~20:00 招待晚宴
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演讲报告
关于亚化咨询
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