近日，中国首台国产28纳米芯片光刻机成功交付使用，这标志着中国芯片产业在关键技术上取得了重大突破。这一成就不仅展示了中国在半导体领域所取得的长足进展，也预示着中国在未来科技竞争中的巨大潜力。
中国首台28纳米光刻机由上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）研发成功，并于2025年1月7日正式交付使用。这台光刻机的单次曝光能直接生产出28纳米级别的芯片，配合套刻精度约为1.9纳米的工作台，经过多次曝光后，甚至可以实现11纳米制程工艺的芯片生产。
这一突破不仅意味着中国在芯片制造领域迈出了自主可控的关键一步，彻底摆脱了在高端芯片制造领域长期受制于人的困境，同时也有力地回击了西方国家在该领域对中国的技术封锁。
国产光刻机的成功交付，将极大地推动中国半导体产业的发展，进一步缩短与国际先进水平之间的距离。这不仅有助于缓解芯片短缺问题，还能降低对外部技术的依赖，增强行业竞争力和话语权。
与此同时，ASML的订单量出现了断崖式下跌，其2024年第三季度的在手订单大幅下降至26.3亿欧元，远低于市场预期的54亿欧元。这主要是受到监管限制加大以及部分客户突然“砍单”的影响。ASML的业绩下滑，部分原因是荷兰政府拟进一步扩大对1970i和1980i深紫外浸没式光刻工具的出口限制，导致其来自中国大陆的订单被波及。此外，英特尔、台积电和三星等大客户因自身产能充足，减少了对ASML设备的订单。ASML的订单下滑不仅影响了其在中国市场的销量，也引发了全球市场对其行业地位的担忧。
中国在光刻机领域的突破，不仅展示了当前的成就，也为未来的技术进步奠定了基础。尽管28纳米光刻机与国际最先进的3纳米光刻技术相比还有差距，但这一突破已经为中国半导体产业带来了新的希望。
中国首台芯片光刻机的成功交付使用，是中国科技发展史上的一个重要里程碑，标志着中国在半导体领域迈出了自主可控的关键一步。这一成就不仅展示了中国在半导体领域的技术实力，也为全球半导体产业的发展带来了新的机遇和挑战。
