在当今科技竞争日益加剧的国际背景下，光刻机作为半导体制造的核心设备，成为各国科技发展水平的重要标志之一。光刻机的先进程度不仅影响着芯片的制造能力，也直接关系到国家在全球科技竞争中的地位。尤其是5纳米光刻机，代表了当前半导体技术的最前沿。然而，关于中国能否独立制造出先进的5纳米光刻机这一问题，物理学教授朱士尧在一次采访中给出了令人深思的看法：“中国永远造不出光刻机。”
在光刻机的生产过程中，涉及的组件包括光源、镜头、控制系统等，这些组件的制造要求极高的技术水平和精密的工艺。以光源为例，极紫外光（EUV）光刻机需要使用极其复杂的激光技术，这种技术的研发和生产往往需要数十年的积累。更重要的是，许多零部件的制造依赖于全球范围内的合作与资源共享。
例如，阿斯麦的EUV光刻机中，光源部分的激光技术来自美国的几家公司，而镜头则可能涉及日本的光学技术。正因为如此，即便是像阿斯麦这样的公司，也不能单独完成光刻机的生产。朱士尧教授提到，任何单一国家，即使是科技强国如美国，也难以独立完成光刻机的制造。
中国在过去几十年间在半导体领域取得了显著进展，但在光刻机的核心技术上仍显不足。虽然中国的相关企业在努力追赶，但想要独立生产5纳米光刻机仍面临诸多困难。
首先，技术积累是一个漫长的过程。光刻机的核心技术不仅需要资金和资源的投入，更需要长期的研发和行业经验的积累。中国在这一领域的起步较晚，尽管国家加大了对半导体产业的投入，但短时间内赶超全球领先水平并非易事。
其次，技术封锁与国际合作的限制也是中国面临的重大挑战。随着国际形势的变化，某些国家对中国在高科技领域的合作逐渐收紧，这使得中国在获取先进技术和设备方面面临更多障碍。即使中国能够在一些领域取得突破，缺乏国际合作的支持，技术进步的速度将受到制约。
因此，从科技德角度出发来看，朱士尧教授说的“中国永远造不出光刻机” 这番言论不无道理。
尽管面临诸多挑战，光刻机的研发并非无望。朱士尧教授的观点并不是否定中国在半导体领域的潜力，而是强调了全球合作与技术整合的重要性。未来，中国可以通过加强与其他国家的技术合作，逐步提升自身的研发能力和技术水平。
