上图所示:
开启或者不开启铜滤过(Cu Filter)所使用的KV都是120KV、mA也都是320mA,也都是使用AEC(自动曝光控制系统)。
第一张图片:是不开启铜滤过(Cu Filter),
此时的Total Dose:0.02mGy
Total DAP:0.21dGy.cm2
第二张照片:是开启一级铜滤过(Cu Filter),
此时的Total Dose:0.02mGy Total DAP:0.19dGy.cm2
第三张照片:是开启二级铜滤过(Cu Filter),
此时的Total Dose:0.01mGy Total DAP:0.14dGy.cm2
第四张照片:是开启三级铜滤过(Cu Filter),
此时的Total Dose:0.01mGy Total DAP:0.12dGy.cm2
开启的铜滤过(Cu Filter)越大,所需要的曝光时间和mAs就越长,如上图所示:
第一张的曝光时间是:1.12mSec, mAs是:0.36mAs
第二张的曝光时间是:1.29mSec, mAs是:0.40mAs
第三张的曝光时间是:1.45mSec,mAs是:0.45mAs
第四张的曝光时间是:1.12mSec,mAs是:0.49mAs
为什么开启的铜滤过(Cu Filter)越大,所需要的曝光时间和mAs就越长呢?
原因是:开启铜滤过(Cu Filter)时,铜滤过(Cu Filter)将散射线滤过掉的同时,也会将少量原发射线也给滤过掉,这也叫切割效应,所以当我们使用AEC(自动曝光控制系统)时,系统会适当增加曝光时间和mAs也弥补铜滤过(Cu Filter)滤过原发射线的损失。
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