光学光刻和极紫外光刻
教育
2024-10-31 11:25
福建
近年来，随着半导体技术的不断发展，微纳米制造技术成为了科技领域的焦点。而在众多的微纳米制造技术中，光刻技术无疑是实现微小结构的关键。由上海科学技术出版社出版的《光学光刻和极紫外光刻》一书，深入介绍了这一领域的最新进展和技术细节，是相关研究人员和技术人员必读的参考书。光刻机常被成称为“半导体工艺皇冠上的明珠”。谁掌握了光刻机制造技术，谁就可以在大国博弈中立于不败之地。本书在介绍光刻技术应用上，作者涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的共性内容后，该书专门开辟章节，较为详细地介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，从理论上揭示了极紫外光刻的技术奥秘。(1)本书是一本系统解读光学光刻技术的最新专著，涵盖了该领域各个重要方面，既有理论的深度又有内容的广度。(2)目前尚没有一本关于光刻技术方面的书可以与之媲美。该书凝聚了作者在光刻领域三十多年科研和教学的精华，对于从事芯片领域的专业技术人员，这是一本手册性的内容丰富的参考书。通过深入浅出的讲解和丰富的案例分析，《光学光刻和极紫外光刻》一书为读者展示了光刻技术从基础原理到前沿应用的全景图。这不仅是一本技术参考书，更是一本引导读者走向微纳米制造前沿的指南。对于任何对半导体制造和微纳米技术感兴趣的读者，这本书无疑是不可多得的宝贵资源。
