中国感光学会第三十二届科技年会“光刻材料与技术”分会成功举办

科技 2024-10-28 14:52 北京

2024年10月20日，由中国感光学会光刻材料与技术专业委员会组织的中国感光学会第三十二届科技年会第三分会场“光刻材料与技术”在深圳大学城国际会议中心成功举办。本次会议汇聚了来自全国各地的专家学者、行业领袖及青年才俊，共同探讨光刻材料与技术领域的最新进展和未来发展趋势。

本次会议吸引了近百位来自高校、科研院所和企业的学者、专家以及在读研究生参加，会议内容涵盖了光刻材料、工艺和应用研究、纳米压印材料和技术、光刻关键材料的质量分析和性能调控方法、先进光掩模、光刻胶建模和计算光刻等领域。会议旨在通过广泛的交流与合作，推动我国光刻材料与技术的发展，促进相关产业的技术进步和产业升级。

中国科学院理化技术研究所李嫕研究员、中国科学技术大学刘世勇教授、南开大学罗锋教授、合光光掩模科技（安徽）有限公司姚树歆总经理应邀作了分会主旨报告。来自清华大学、中国科学技术大学、山东大学、中国科学院合肥物质科学研究院、河北科技大学、同济大学、南开大学、北京化工大学、南京大学、北京理工大学、中国科学院光电技术研究所、北京师范大学、上海大学、中国科学院上海高等研究院、上海科技大学、大连理工大学、国科天骥（山东）新材料有限责任公司、阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司等全国二十余家高校、科研院所和企业的专家学者作了分会邀请报告，参会人员围绕报告主题与报告人展开了热烈的交流和讨论。

中国感光学会光刻材料与技术专委会主任杨国强研究员表示，在先进光刻材料与技术领域，突破国外“卡脖子”问题是我们必须面对的挑战。希望通过本次会议提供的交流机会，促进高校、科研院所和企业之间的协作，共同推动国内相关产业的进步。

本次会议的成功举办，不仅加强了学术界与企业界的互动与合作，也为我国光刻材料与技术的发展注入了新的动力。未来，中国感光学会将继续搭建高水平的交流平台，助力我国在光刻材料与技术领域的持续创新与提升。

专委会主任杨国强研究员致辞

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