中国感光学会第三十二届科技年会将于2024年10月18日-21日在深圳举办。年会由中国感光学会、中国科学院理化技术研究所、北京大学深圳研究生院联合主办。
年会官网：https://2024csist.scimeeting.cn
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分会场主题
光刻材料与技术
组织单位
中国感光学会光刻材料与技术专业委员会
杨国强 研究员
中国科学院大学/中国科学院化学研究所
韦亚一 研究员
中国科学院微电子研究所
孟永钢 教授
清华大学
康 劲 总经理
北方集成电路创新技术中心（北京）有限公司
姚树歆 总经理
合光光掩模（安徽）科技有限公司
李 嫕 研究员
中国科学院理化技术研究所
分会场日程安排
（如有调整，以现场安排为准）
10月20日（周日），上午 地 点：北京大学深圳研究生院D阶教室 | |||
时间 | 报告题目 | 报告人 | 单位 |
8:20 | 分会场开幕致辞 | 杨国强 | 中国科学院化学研究所 |
主持 | 韦亚一 研究员、刘世勇 教授 | ||
8:30 | 高分辨光刻胶设计及光刻性能研究 | 李嫕 研究员 | 中国科学院理化技术研究所 |
8:50 | 金属氧化物型极紫外光刻胶研究进展 | 徐宏 副教授 | 清华大学 |
9:05 | 金属氧簇光刻材料的设计合成 | 张磊 教授 | 南开大学 |
9:20 | 应用于先进光刻的金属氧团簇 | 陈鹏忠 副研究员 | 大连理工大学 |
9:35 | 金属纳米团簇：潜在的光刻材料？ | 伍志鲲 研究员 | 中国科学院固体物理研究所 |
9:50 | 聚（苯乙烯-对羟基苯乙烯）光刻胶树脂的制备 | 刘少辉 讲师 | 河北科技大学 |
10:00 | 茶歇、讨论交流 | ||
主持 | 李嫕 研究员、罗锋 教授 | ||
10:15 | 精准高分子化学在极紫外光刻胶设计中的应用 | 刘世勇 教授 | 中国科学技术大学 |
10:35 | 纳米压印光刻胶 | 吴思 教授 | 中国科学技术大学 |
10:50 | 基于功能纳米材料的直接光刻技术 | 王元元 教授 | 南京大学 |
11:05 | 上海光源EUV光刻胶光刻性能检测平台最新进展 | 赵俊 副研究员 | 中国科学院上海高等研究院（上海光源） |
11:20 | 金属氧簇基玻璃态配位网络的模块化合成 | 赵英博 研究员 | 上海科技大学 |
11:35 | 芯片光刻用抗反射底涂层材料的制备与性质 | 王力元 副教授 | 北京师范大学 |
11:50 | 单分子树脂负性光刻胶的关键性能优化策略 | 张巳亮 研究生 | 中国科学院化学研究所 |
10月20日（周日），下午 地 点：北京大学深圳研究生院D阶教室 | |||
主持 | 姚树歆 总经理、康劲 总经理 | ||
13:30 | 面向0.55高数值孔径光刻技术的EUV光刻胶材料 | 罗锋 教授 | 南开大学 |
13:50 | 光刻胶性能和感度调控研究 | 康文兵 教授 | 山东大学 |
14:05 | 半导体光刻胶树脂产品研发及产业化中检测技术问题与难点 | 聂俊 教授 | 北京化工大学 |
14:20 | 光刻胶单体和树脂的分析技术探讨 | 孙凤霞 教授 | 河北科技大学 |
14:35 | 自交联树脂在先进光刻材料领域的应用 | 许箭 总工程师 | 国科天骥（山东）新材料有限责任公司 |
14:50 | 题目待定 | 李冰 总经理 | 北京科华微电子材料有限公司 |
15:05 | 硫鎓盐修饰的杯芳烃单分子树脂非化学放大型光刻胶 | 彭蓉蓉 研究生 | 中国科学院理化技术研究所 |
15:15 | 高抗刻蚀性的芘衍生物单分子树脂电子束光刻胶 | 丛雪 研究生 | 中国科学院化学研究所 |
15:25 | 茶歇、讨论交流 | ||
主持 | 杨国强 研究员、康文兵 教授 | ||
15:40 | 先进光掩模的进展 | 姚树歆 总经理 | 合光光掩模科技（安徽）有限公司 |
16:00 | 基于邻硝基苄基衍生物光解表面能调控的精密电子电路印刷工艺研究 | 马昌期 研究员 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
16:15 | 新型酮肟酯研发：酰基自由基抑制及抗黄变性能研究 | 金明 教授 | 同济大学 |
16:30 | 极紫外光刻胶的原子尺度建模 | 李浩源 教授 | 上海大学 |
16:45 | 基于信息论的先进计算光刻技术 | 马旭 教授 | 北京理工大学 |
17:00 | 基于富勒烯衍生物的新型光刻胶材料 | 杨东旭 研究员 | 中国科学院光电技术研究所 |
17:15 | 聚酰亚胺在柔性显示中的研究进展 | 温静静 讲师 | 河北科技大学 |
17:25 | 基于碘鎓盐聚合物的高分辨率非化学放大光刻胶 | 崔雪雯 研究生 | 中国科学院化学研究所 |
17:35 | 硫鎓盐修饰的单分子树脂光刻胶：结构调控和高分辨光刻性能 | 刘卓然 研究生 | 中国科学院理化技术研究所 |
17:45 | 分会场闭幕致辞 | 杨国强 研究员 | 中国科学院化学研究所 |
分会主题报告
分会邀请报告
中国感光学会第三十二届科技年会墙报交流内容
编号 | 题目 | 第一作者及单位 |
第三分会场 光刻材料与技术 | ||
P3-1 | 蒽光二聚体修饰的机械力响应聚合物 | 刘煜彦，中国科学院理化技术研究所 |
P3-2 | 新型高分辨率小分子金属配合物光刻胶 | 伍宇锐，中国科学院化学研究所 |
P3-3 | 丙烯酰胺树脂单体的高效液相色谱分析 | 顾丽敏，河北科技大学 |
P3-4 | 半胱氨酸改性壳聚糖的制备及其对金属离子吸附行为研究 | 杨昆，河北科技大学 |
P3-5 | 一种新型光刻胶树脂单体丙烯酸酯类化合物的 HPLC分析方法研究 | 武彤，河北科技大学 |
P3-6 | 利用密度泛函法和半经验方法对极紫外光刻胶的电离势进行准确而高效的评估 | 杜坤，上海大学 |
P3-7 | EUV/EB光刻中离子型光致产酸剂的产酸机理 | 付承彬，上海大学 |
P3-8 | 化学放大光刻胶脱保护反应的分子机理 | 杜红，上海大学 |
P3-9 | 化学放大光刻胶后烘过程中的酸扩散和反应模拟 | 王梓霖，上海大学 |
P3-10 | Exceptional Lithography Sensitivity Boosted by Hexafluoroisopropanols in Photoresists | 刘俊俊，山东大学 |
P3-11 | 可聚合的全氟非离子型光致产酸剂的合成与应用研究 | 刘越，山东大学 |
分会场学术秘书
郭旭东
联系电话：13811700509
Email：scoopguo@iccas.ac.cn
于天君
联系电话：13810801363
Email: tianjun_yu@mail.ipc.ac.cn
