全球首发!山西一半导体企业宣布,成功突破12英寸SiC衬底

科技   2025-01-01 20:15   江苏  

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全球首发,12英寸SiC衬底
近日,中电科半导体材料有限公司所属山西烁科晶体有限公司成功研制出12英寸(300mm)高纯半绝缘碳化硅单晶衬底,并同期研制成功12英寸(300mm)N型碳化硅单晶衬底。

烁科晶体一直坚持聚焦碳化硅材料研发及生产,开拓碳化硅材料更广阔的应用场景。先后攻克了大尺寸扩径工艺、高纯半绝缘碳化硅衬底关键工艺和低缺陷N型衬底的生长工艺。全球首片12英寸高纯半绝缘碳化硅衬底的成功研制,将加速碳化硅材料在VR眼镜、热沉等新应用场景的进一步拓展。
未来,烁科晶体将继续聚焦大尺寸碳化硅单晶衬底的产业化技术,持续加大研发投入,充分发挥技术创新引领作用,打造核心竞争优势,从而带动创新链、产业链、生态链的创新与重构,引领行业向更高端化方向发展。



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天岳先进也发布了,12英寸碳化硅衬底

此外,近期,天岳先进官微披露,2024德国慕尼黑半导体展览会(Semicon Europe 2024)于11月12日正式开幕,天岳先进携全系列碳化硅(SiC)衬底产品亮相,并于11月13日发布了12英寸(300mm)N型碳化硅衬底产品,标志着碳化硅产业正式迈入超大尺寸碳化硅衬底时代。

据介绍,12英寸碳化硅衬底材料,能够进一步扩大单片晶圆上可用于芯片制造的面积,大幅提升合格芯片产量。在同等生产条件下,显著提升产量,降低单位成本,进一步提升经济效益,为碳化硅材料的更大规模应用提供可能。天岳先进董事长宗艳民表示,对于所有SiC器件制造商而言,生产成本的主要压力在于从棒料(boules)切片形成衬底的缓慢增长率。我们希望通过扩大衬底尺寸,持续降低每单位面积的材料成本。

据悉,针对高压大功率电力电子器件用P型碳化硅单晶衬底存在的成本高、电阻率高、缺陷控制难度大等技术难题,天岳先进布局液相法技术,在2023年发布了8英寸碳化硅晶体,并于2024年推出了采用液相法制备的4度偏角P型碳化硅衬底。

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