☝点击上方“化工技术宝典”关注公众号，看更多精彩内容！
《请点击链接阅读全文》
【南京12.20-22】2024第十七届（成创智能）农药制剂配方技术、生产工艺案例解析专题研讨会
湿电子化学品，又称超净高纯试剂或工艺化学品，是指主体成分纯度大于 99.99% ，杂质离子和微粒数符合严格要求的化学试剂。
湿电子化学品是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料，是电子技术与化工材料相结合的创新产物，具有用途关键性、 厂商高垄断性、品种多样性、行业高增长性等特点。
根据组成成分和应用工艺不同，湿电子化学品分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品。通用湿电子化学品主要以超净高纯试剂为主，除了主体成分纯度大于99.99%外，其杂质离子和微粒数符合严格要求，一般为单组份、单功能湿电子化学品，例如过氧化氢、 氢氟酸、硫酸、磷酸、盐酸、硝酸等。功能湿电子化学品是通过复配手段达到特殊功能，从而满足特殊工艺需求的配方类或复配类湿电子化学品，主要包括显影液、剥离液、清洗液、刻蚀液等。
根据中国电子材料行业协会《2024版湿化学品产业研究报告》，2023年，全球湿电子化学品整体市场规模约684亿元；我国约225亿元。预计到2025年，我国湿电子化学品整体市场规模将达到292.75亿元。
根据中国电子材料行业协会数据，按湿电子化学品销售额统计，2023年欧美传统企业全球市场份额约为30%，日本企业全球市场份额约为27%，中国台湾地区、韩国、中国大陆本土企业的全球市场份额合计约为42%，余下1%市场份额由其他国家、地区所有。
国内从事湿电子化学品研究生产的企业有50多家，但目前缺乏在多个品种均拥有较高市场占有率的龙头企业，各企业优势产品相对单一；部分企业尽管品种较多，但拳头产品有限，特别是在集成电路先进制程产品上较境外企业相比，尚有较大差距。
江化微（603078.SH）
江阴江化微电子材料股份有限公司于2001年成立，是目前国内生产规模大、品种齐全、配套完善的湿电子化学品专业服务提供商。
公司产品主要应用于电子元器件微细加工的各种制造工艺过程，如清洗、光刻、显影、蚀刻、去膜和掺杂等。公司被评为“电子材料专业十强企业”，并在2021年成功入选第三批专精特新“小巨人”企业，位于国内湿电子化学品行业的领地位。作为国内产品品种最齐全、配套能力最强的湿电子化学品生产企业之一，公司产品线较为丰富，目前有数十种湿电子化学品，产品能够广泛的应用到平板显示、半导体及LED、光伏太阳能等多个电子领域。
格林达（603931.SH）
杭州格林达是国内领先的湿电子化学品生产企业。公司目前已建立较为完善的采购和生产体系，具有领先的产品设计开发能力和稳定的客户群体。公司产品主要有显影液、蚀刻液、稀释液、清洗液等。
公司自主研发全流程工艺设备，掌握湿电子化学品重要核心生产技术，建立严格的品控管理体系。自主创新研发的核心产品电子级四甲基氢氧化铵（TMAH显影液）打破了国外技术垄断，填补国内此项技术空白，并实现替代进口产品，得到众多知名下游显示面板领域的客户认可。
安集科技（688019.SH）
公司技术已涵盖集成电路制造中的“抛光、清洗、沉积”三大关键工艺，产品组合可广泛应用于芯片前道制造及后道先进封装过程中的抛光、刻蚀、沉积等关键循环重复工艺及衔接各工艺步骤的清洗工序，结合高端纳米磨料及电子级添加剂纯化技术的熟练掌握，安特纳米自动化生产基地建成投产及安集电子材料在上海电子化学品专区的制造基地开工建设，上游原材料自主可控能力大大加强，公司技术成果转化能力全面提升，进一步加强公司核心竞争优势。
中巨芯（688549.SH）
公司目前已布局电子湿化学品、电子特气、前驱体材料三大领域，除已实现销售并构成主要销售收入的电子级氢氟酸等3款湿化学品及高纯氣气、氣化氢2款电子特气产品外，电子级氨水等5款电子湿化学品、高纯氟化氢、三氟甲烷等6款电子特气产品及前驱体材料中的HCDS已可实现量产另有2款前驱体产品处于客户认证阶段。
新宙邦（300037.SZ）
公司主营业务是新型电子化学品及功能材料的研发、生产、销售和服务，主要产品包括电池化学品、有机氟化学品、电容化学品、半导体化学品四大系列。
2024年上半年公司半导体化学品用于显示面板及太阳能光伏制造领域的产品销售额有所下降，用于集成电路领域的产品稳步大幅增长。报告期下游半导体集成电路领域产业需求回暖，公司积极抓住市场机遇，为客户提供完善的产品解决方案，公司半导体化学品业务依靠公司先进的工艺技术、高品质的产品和完善的质量管理体系赢得客户的信任，半导体化学品出货量以及销售额稳步增加，未来随着工业自动化、含氟冷却、人工智能等前沿科技的推动，半导体行业发展潜力巨大，未来具有显著的增长空间。
上海新阳（300236.SZ）
公司主要开发用于集成电路制造的关键工艺材料，包括电镀液及添加剂、清洗液、光刻胶、研磨液四大系列产品，处于整个产业链的上游环节，随着半导体制造市场的增长而增长，并对半导体产业的发展起着重要支撑作用。
公司湿化学品主要产品包括：晶圆制造用清洗液、蚀刻液系列产品晶圆制造用蚀刻后清洗液、研磨后清洗液以及蚀刻液系列产品为公司面向芯片制造领域开发的电子清洗液系列产品。主要包括铜制程蚀刻后清洗液、铝制程蚀刻后清洗液、氮化硅/钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液等。晶圆制造用化学机械研磨液公司化学机械研磨液主要包括适用于浅槽隔离研磨液（STISlurry）、金属钨研磨液(WSlurry)、金属铜研磨液(CuSlurry)，硅氧化层研磨液(OxideSlurry)，多晶硅层研磨液(PolySlurry)等系列产品。
此外，公司开发的先进制程干法蚀刻清洗液新产品取得突破，研发及验证工作顺利推进，进一步扩展公司清洗液产品的应用市场，助力集成电路关键工艺材料国产替代进程。公司清洗类产品的技术及服务优势不断凸显，品牌影响力不断提高，产品营收规模持续提升。
