Rapidus公司计划在日本工厂安装10台EUV光刻机，以2027年起量产2纳米级别芯片。
首台EUV光刻设备已于2024年12月抵达日本。Rapidus预计2025年4月在IIM-1开始2纳米试生产，6月向博通交付样品，2027年正式量产。
一、Rapidus部署10台极紫外（EUV）光刻机（天价）
三、ASML的强劲业绩
四、ASML新CEO富凯对半导体洞察
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