中科三环申请永磁体局部区域退磁专利,实现永磁体局部退磁

文摘   2024-11-20 09:57   北京  

金融界2024年11月4日消息,国家知识产权局信息显示,北京中科三环高技术股份有限公司申请一项名为“永磁体的局部区域的退磁方法、装置及磁体”的专利,公开号CN 118888256 A,申请日期为2024年9月。

专利摘要显示,本申请提供了一种永磁体的局部区域的退磁方法、装置及磁体。该退磁方法,包括:将退磁线圈靠近所述永磁体的局部区域放置,其中所述退磁线圈包括上线圈和下线圈,所述上线圈靠近所述局部区域的上方,所述下线圈靠近所述局部区域的下方;以及向所述退磁线圈通入电流,以产生与所述局部区域的磁化方向呈预定角度的退磁场,其中所述上线圈和所述下线圈所产生的磁场方向相同。

本文源自:金融界

作者:情报员

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