振奋消息:国产光刻机公布了!

2024-09-17 07:51   山西  

作者:卫泱


这真是一个好消息!

昨天,9月16日,新加坡联合早报报道称:“美国及盟友扩大对华半导体限制之际,中国官方宣布推广一款可生产8纳米及以下芯片的国产光刻机。受访专家认为,这意味着中国取得科技突破,但官方未透露良率信息,显示其可能不具备国际竞争力。”
值得我们注意的是,与此消息对应的是,据观察者网援引微信公众号“工信微报”消息,工信部近日发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,所涉条目中包含氟化氩光刻机,具体参数为光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。

虽然我们对国产半导体产业克难攻坚的事业期许甚高,但上述消息一经发布,仍不免有石破天惊之感。据业内人士分析,氟化氩服务于深紫外光刻机,或可生产8nm及以下芯片。
不可否认的一个事实是,国家工信部既然公开了这一技术,就说明我们在这一技术已经很成熟了!
事实上,无论是8nm还是14nm,哪怕降低期待,只要做到28nm,我们就能够满足基本的需求!

最重要的是,这是我们中国自主的技术!这是我们中国自己的东西!当下最重要的是:不能让人家卡我们的脖子!
也就是说,我们的国产光刻机只要能够生产8nm及以下芯片,那么我国将不再受制于荷兰阿斯麦!所以说,这一振奋消息,想想都会让人兴奋!
退一步来说,即便只能做到14nm、28nm,起码说明更尖端的7nm、5nm、3nm正在研制当中,再过几年,必然能够追上乃至赶超世界先进水平,一如我国的航天奇迹!
要知道,就在前几天,在美国的授意与唆摆之下,荷兰单方面宣布,扩大对中国半导体出口管制,先前已卖给中国的部分机器提供维修零件或软件更新,也必须先拿到许可证。
这预示着美西方国家对中国半导体产业的封堵围剿已经到了不可理喻的地步!
事实再一次证明,美西方越是制裁打压,中国人民不屈不挠、努力拼搏的精神就越加旺盛,中国的自主创新能力也越加被激发!

中国人向来就喜欢给别人制造“惊喜”,当年雷蒙多访华,华为发布mate60,搞得这位美国商务部长直言“很不爽”;这次美国荷兰联手阿斯麦扩大对华管制封禁,这款氟化氩光刻机也就随之面世,实在很难想象西方那些政客此刻是怎样的心情!
总之,虽然中国在高端芯片设备上跟西方还有比较大的差距,但是从无到有,从零到一,只要实现了0的突破,就是天大的胜利!要知道,迭代和优化,是中国人最擅长的!!
只要我们开始有了,西方的那些所谓的“宝贝”用不了多久也就会掉落为白菜价!
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