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近日,工业和信息化部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》通知。
“工信微报”介绍道,重大技术装备是国之重器,事关综合国力和国家安全。中国首台(套)重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系统和关键零部件等。
值得注意的是,在重大技术装备文件列表中包含了国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩(ArF)光刻机(65nm)的内容。
其中氟化氩光刻机,光源为193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。
目前来说,光刻机共经历了六代的发展,从最早的 436nm 波长,再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line,第三代则是 248nm 的 KrF 激光,第四代就是 193nm 波长的 ArF 光刻机,属于干式DUV光刻机。第五代是ArFi,即浸没式DUV光刻机。第六代指的是极紫外EUV光刻机。
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