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家人们，周末好！我是老王。
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逻辑简述：
一、光刻机新路线，挑战ASML
全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布，成功交付首台新型纳米压印光刻机。
传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案，佳能的设备则是通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片。
目前，先进制程使用的是极紫外（EUV）光刻技术，ASML是全球唯一可供应极紫外光刻设备的制造商。佳能推出的纳米压印光刻设备经过改良后甚至能生产2纳米级半导体，希望挑战ASML在光刻设备市场的地位。
佳能在去年十月发布了全球首台商业化纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C，公司表示这款设备可以实现最小线宽为14纳米的电路图案，相当于当前生产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。
与使用光的传统方法相比，纳米压印的优势在于能够抑制耗电量和成本。
佳能表示，相较于传统光刻机需要复杂的光学镜片构造，纳米压印设备的构造更为简单，功耗仅需十分之一。同时还能通过单次压印形成复杂的三维电路图案，能够处理用于最先进逻辑芯片的极细电路
二、苏大维格
公司是国内首批实现纳米压印技术产业化和商业化的高新技术企业，与纳米压印技术相关的产品是公司目前收入的重要组成。
走势方面，公司近期底部成交量大幅放出，且“红肥绿瘦”，已经突破120线阻力位，进入“临近年线”的起爆区，一旦风起，有望扶摇而上，值得重点跟踪。
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