目前国产的AI芯片大部分都交给台积电以7纳米工艺生产，手机芯片有部分交给台积电以6纳米工艺生产，中国芯片为台积电贡献的收入占比达到一成左右。
此番台积电受压，它本意是停止以7纳米及以下工艺为中国芯片代工，但是有消息指出美国方面要求台积电停止以7纳米及以下工艺为中国所有芯片提供代工服务，要求严格许多，不过由于美国总统还处于交接期，该更严格的限制未知会否立即实施。
全球能提供7纳米及以下工艺的还有三星，。不过三星此前为中国芯片提供代工服务相当有限，而且三星向来唯美国马首是瞻，自然美国的要求，三星会迅速跟进，而三星在芯片代工方面其实并不好过，它在5纳米及以下工艺几乎失去了所有客户，导致它在芯片代工市场的份额从两成左右暴跌至13%.
美国此举固然短时间内会对中国芯片造成巨大打击，但是中国芯片并非找不到替代方案，而且这还可能会加速中国芯片在制造工艺方面的发展，增强中国芯片产业链的实力。
在芯片制造方面，中国最大的芯片制造企业已可大规模生产14纳米及以上工艺。N+1工艺则已实现量产，业界人士推测N+1工艺应该接近台积电的第一代7纳米工艺了，台积电的第一代7纳米工艺没有采用EUV光刻机生产。
中国芯片的N+1工艺采用DUV光刻机生产，以多重曝光技术实现，这也导致这项工艺的生产良率偏低、生产成本偏高，在性能方面稍微不如台积电的7纳米EUV工艺，这是导致中国AI芯片大多交给台积电以7纳米工艺生产的原因。
如今台积电断供7纳米及以下工艺，中国的AI芯片只能将芯片交给国内芯片代工企业，让国内芯片代工企业获得巨量的收入，如此将可以加速N+1工艺的良率提升，同时有了更多收入可以加快研发5纳米工艺。
此外，提升芯片性能的办法还有芯片堆叠、小芯片技术等等，只不过这类技术对于手机芯片这类对功耗控制要求较高的芯片不太适用，而对于AI芯片、PC处理器、服务器芯片等等对功耗要求没那么严格的芯片种类完全可行，如此国产芯片工艺加上这类技术可以满足大部分需求。
美国的这一要求已对全球芯片行业造成不小的打击，光刻机企业ASML就因此大跌，凸显出全球芯片行业担忧美国的做法可能导致这些芯片设备和材料企业的收入进一步下降，毕竟中国是全球最大的市场。
中国芯片市场的收入将更多流入国内芯片行业。事实此前美国的连番举措就促使中国加速发展国产芯片产业链，近几年来国产芯片设备和材料企业的营收都高速增长。
在获得了更多收入的情况下，中国芯片产业链得以加速完善，国内的芯片制造企业尽可能采用国产芯片设备。
目前中国最大的芯片设备企业已成为全球第六大芯片设备企业，让美国、日本和荷兰的同行担忧。
