正方体绘画要点：
1．绘画时要注意对石膏体的整体观察，并熟练掌握透视知识。对正方体结构进行全面的透视及明暗分析。
2．本画的石膏体结构明确，尤其是亮面与暗面的强烈对比，对于塑造体积感而言十分重要。
线稿的绘制要领
绘制正方体线稿的时候，首先观察正方体的角度，这个正方体是3/4侧，绘制时先定出正方体的最高点与最低点，以及背景的平面位置，再把正方体的整体结构用线条勾勒出大致轮廓。要准确把握3/4侧面的透视关系。
调子的绘制要领
在线稿的基础上开始给正方体绘制明暗色调，首先概括地分出正方体的明暗交界线，以及投影、暗面、灰面和亮面。再具体细化出高光、反光及亮灰面的分布。
小结
通过对石膏正方体绘画的练习，可以明确正方体的结构关系，把握正方体的透视关系，能够有效地利用这些关系塑造出更有体积感的画面。
步骤1
用2B铅笔画出一条线，用来确定正方体在画面中的最高点，然后确定正方体的上下边线。
步骤2
确定正方体左右边线。
步骤3
根据透视原理确定正方体的顶面。
步骤4
勾勒出正方体的基本轮廓。确保整体透视效果正确，确定光源的位置。
步骤5
再用4B铅笔画出明暗结构线条的轮廓线，以及投影与环境色的轮廓线。
绘制调子
步骤6
确定正方体的暗面及投影区域，将暗面用排线确定色调。
步骤7
分析光源方向，确定画面中的投影区域，并以排线填充。注意画面正方体交界处的线条转变，以及正方体反光处的线条处理。
步骤8
观察投影区域，根据投影色度的不同对投影部分进行细节区分。
步骤9
整体画出正方体的暗部调子，以及环境色的铺陈。同时注意投影与环境色的过渡。
步骤10
对画面中投影部分进行过渡，避免反光与投影区域过于僵硬。画出灰面与暗面、暗面与亮面的转折线，确定反光区域。
步骤11
用4B铅笔逐步加深投影整体的明暗程度，注意暗面的反光处理。
步骤12
加深投影区域的刻画，将投影与暗面反光处做出区分。
深入刻画
步骤13
填充灰面色调，此时正方体的体积感基本确立。
步骤14
用4B铅笔加深投影区域的调子，再用2B铅笔画出正方体灰面与暗面的暗部调子。继续对周边环境上色，画出物体界线的细节。
步骤15
用纸笔涂抹暗面及投影区域的深色调区域，再用2B铅笔画出整齐的排线，衬托质感。
步骤16
用纸笔对投影及周边色调进行涂抹。继续涂抹灰面与暗面的整体调子。对正方体上的灰面与暗面再次进行排线铺垫色调，并用纸笔整体涂抹，同时注意投影与物体的边界区分。
步骤17
用4B铅笔完善正方体的边界，注意刻画与桌面接触的细节，加深投影靠近正方体的区域。注意投影的层次关系与变化。
步骤18
用4B铅笔对投影区域边缘及靠近正方体的地方深度进行刻画，加深色调。让深色的投影区域由近及远产生距离感，同时使画面不至于过于死板。用纸笔涂抹灰面、暗面，以及投影区域内的反光部分。
步骤19
将画面中背景的环境色再次进行铺垫。注意与投影色度的区分，并注意正方体灰面和背景的对比，突出距离感。
步骤20
将正方体的灰面、暗面用2B铅笔再次排线，加深调子，需注意正方体边界线的刻画，以及面与面之间的线条排布方向。投影区域用4B铅笔继续整体加深，背景的调子也同时加深。
步骤21
加深灰面色调和投影区域的深色区，加强刻画画面中正方体与投影的边界，并加以区分。
步骤22
画出衬布与正方体之间的受力关系，即桌面的高光面、灰暗面之间的关系处理。
步骤23
用较密的排线对底部的背景进行上色，确定衬布的纹理走向及褶皱阴影。加强刻画投影与正方体之间的分界线，以及左后侧的投影。用密度大的排线画出灰面与暗面的调子。
步骤24
用2B铅笔对正方体的灰面及暗面进行高密度的排线，使其产生石膏应有的质感。投影部分的排线应产生相应的变化。背景也可通过高光与暗面的对比画出来。
步骤25
完善环境色调的铺垫，使背景墙体与台面色统一。统一环境面应保持笔触线条一致。
步骤26
用4B铅笔对投影区域进行排线，加深色调，对正方体边缘也深度刻画。对桌面环境色再次排线，使其成为灰面调子，并用橡皮擦出桌面布纹的高光处。用密度较低的排线铺陈布纹的受光面，与背光面布纹色调稍做区分。
步骤27
用纸笔涂抹布纹的受光面，并用2B铅笔排线，体现衬布的质感，加深投影区域的布纹效果。
步骤28用5B铅笔继续深入刻画正方体边缘的色调，尤其是暗面与亮面的边界、与灰面的边界线，以及灰面与背景的边界线、与投影的边界线。再用HB铅笔完善细节处的刻画，对画面进行统一调整。
