馆藏简介
书名：《材料X射线分析技术》
编著：朱和国、曾海波、兰司、尤泽升
出版社：科学出版社
索书号：O721/10
馆藏地：校著作文库（716室）、自科短期借阅室（703室）、自科图书阅览室（503室）
《材料X射线分析技术》简介
本书为工业和信息化部“十四五”规划教材，主要介绍晶体学基础与X射线在材料结构、形貌和成分方面的分析技术。其中，结构分析技术包括X射线的物理基础、衍射原理、物相分析、织构分析、小角散射与掠入射衍射分析、位错分析、层错分析、非晶分析、单晶体衍射与取向分析、内应力分析、点阵常数的测量与热处理分析等；形貌分析技术即三维X射线显微成像分析；成分分析技术包括特征X射线能谱、X射线光电子能谱及X射线荧光光谱等。书中研究和测试的材料主要包括金属材料、无机非金属材料、高分子材料、非晶态材料、金属间化合物、复合材料等。本书对每章内容做了提纲式的小结，并附有适量的思考题。书中采用一些作者尚未发表的图，同时在实例分析中引入一些当前材料领域最新的研究成果。
本书可作为高等学校材料科学与工程专业本科生的学习用书，也可供相关专业的研究生、教师和科技工作者使用。
目录
前言
第1章 晶体学基础
第2章 X射线的物理基础
第3章 X射线的衍射原理
第4章 X射线的物相分析
第5章 晶粒尺寸与多晶体内应力的测量
第6章 单晶体的结构、取向与宏观残余应力分析
第7章 织构分析
第8章 X射线小角散射与掠入射衍射分析
第9章 位错分析
第10章 层错分析
第11章 非晶分析
第12章 成像分析
第13章 成分分析
第14章 点阵常数的测量与热处理分析
参考文献
附录
来源 | 军工特藏部
图文 | 卫东华
编辑 | 梁雪
初审 | 王轶帅
审核 | 欧阳志 王敏芳
