荷兰扩大光刻机禁令，只会再次坚定中国自力更生的决心，工信部宣布先进光刻机问世！
日前，荷兰政府宣布了一项新的政策，即对光刻机的出口实施更严格的控制。根据这项政策，任何希望出口高端光刻机的荷兰公司，都必须向荷兰政府提出申请，并在获得出口许可证后才能进行交易。尽管荷兰政府在声明中并未明确指出这些措施是针对特定国家，但明眼人一看便知——这就是对中国赤裸裸地针对！
荷兰这一决定的背后，显然受到来自美国的压力。首先，美国作为全球半导体技术的领导者，主导了半导体产业的全球分工。荷兰的光刻机制造商，如阿斯麦公司，其技术并不完全独立，因此在面对美国可能的原材料供应中断时，他们只能选择屈服。此外，荷兰作为北约成员国，在安全和情报方面与美国有着紧密的联系，这也使得荷兰在面对美国的要求时难以说不。
面对这种情况，中国已经采取了一系列反制措施。对那些在贸易中歧视中国的国家，例如加拿大，发起了反倾销调查，并在必要时将问题提交至世界贸易组织。此外针对美国妄图掐中国半导体的“脖子”，中国并没有选择屈服。
日前，工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中就包含了氟化氩光刻机以及氟化氪光刻机，分别是使用248nm光源、分辨率≤110nm，套刻精度≤25nm的Krf光刻机和使用193nm光源、分辨率≤65nm、套刻精度≤8nm的ArFi光刻机。
当然，我们也得实事求是，套刻精度≤8nm，并不等于说这就是8nm的光刻机。与国际先进水平相比，我们仍然存在差距。根据新浪财经的报道，阿斯麦公司早在2006年就推出了DUV光刻机XT，该设备使用193nm的光源波长，实现了57nm的分辨率和7nm的套刻精度。这意味着，我们目前所达到的技术水平，实际上与西方18年前的技术相当。
由此可见，研发和制造高端光刻机是一项极具挑战性的任务。正如吴汉明院士所指出的，单靠一个国家的力量，要制造出EUV光刻机是非常困难的。然而，无论挑战有多大，我们都必须迎难而上。
哪怕我们只能缩短与西方一年或两年的差距，这也是一种进步，总比被远远抛在后面要好。只要我们坚持不懈，以“愚公移山”的精神，不断积累小的技术进步，最终会实现从量变到质变的飞跃。
随着中国自主研发的光刻机的问世，这也标志着西方国家对中国的全面技术封锁已经失败。不过，要说最痛苦的，还得是荷兰，因为它们失去了中国这个最大的光刻机市场，从而遭受了经济损失。不得不说，做美国的盟友，真的是“致命”的。
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