迈为发往通威的首台套1GW PECVD设备表现符合预期。1GW PECVD机台载板面积 2.750×2.750m2，相比600MW PECVD机台载板面积 2.015×2.030m2，增大85%。大载板受驻波效应影响更明显，载板内镀膜均匀性挑战更大。经过两次重大升级改造，1GW PECVD载板内效率均匀性得到明显改善。
在HJT电池生产的第三道TCO薄膜沉积工序中，行业内常用的TCO镀膜方法为磁控溅射（PVD）和反应等离子体沉积（RPD），两种方案各有千秋，PVD因生产成本低成为市场主流。迈为推出的PED设备将PVD腔体与RPD腔体进行结合，可使用高迁移率的靶材，从而提效；还可使用无铟的靶材，从而降本，但降本的前提必须是不损失效率。在不采用PED设备的情况下，只采用PVD设备很难实现无铟的同时不损失效率。
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