在半导体领域，BARC是底部抗反射涂层（Bottom Anti - Reflective Coating）的缩写。
作用原理
• 光刻工艺是半导体制造的关键步骤，在光刻过程中，光线照射光刻胶，使光刻胶发生化学反应，从而将掩模图案转移到光刻胶上。然而，光刻胶和衬底之间的反射会导致光刻图案的分辨率降低、线宽不均匀等问题。BARC位于光刻胶和衬底之间，它能够减少光线在光刻胶 - 衬底界面的反射，从而提高光刻的分辨率和精度。
材料特性
• 光学性质：BARC材料具有特定的折射率，可以有效地降低反射率。其折射率通常根据光刻工艺的要求和衬底材料的折射率进行设计和优化。
• 成膜性质：能够形成均匀、致密的薄膜，并且与光刻胶和衬底都有良好的粘附性，确保在光刻过程中不会出现剥落或损坏的情况。
应用场景
• 在先进的半导体制造工艺中，如制造高性能处理器芯片、大容量存储芯片等，都需要高精度的光刻工艺。BARC在这些工艺中起着至关重要的作用，能够帮助实现更小的芯片制程、更高的集成度和更复杂的电路图案。
