先有认知，才能挖到
找准时机，才能下手
逻辑检验，才能捏住
模式内亏损，模式内盈利
祝你好运！
——兰生观察
科技自立自强的号角再次吹响。大领导在安徽合肥滨湖科学城视察时强调科技创新的重要性，这让光刻机再次成为市场焦点。
作为半导体制造中最核心的设备，光刻机不仅是技术壁垒最高的领域，更是产业链中最稀缺的环节。
光刻机被誉为"半导体工业皇冠上的明珠"，这个称号绝非浪得虚名。
在芯片制造流程中，光刻工艺占据了整个制造时间的一半，成本的三分之一。
其核心功能是将电路图形通过光学系统精确地转移到硅片上，实现芯片的微细化制造。
光刻机的构造主要包含三大系统：光源系统、曝光系统和双工件台系统。
其中，光源系统和曝光系统构成的光学系统是最核心部分，直接决定了光刻机的工艺性能。要提升光刻机的分辨率，主要通过缩小波长和增大物镜数值孔径两条技术路线。
从市场规模来看，光刻机约占半导体晶圆制造设备总市场的17%。根据SEMI预测，2024-2027年中国将保持全球300mm设备支出第一的地位，总投资预计超过1000亿美元。
ASML预计2025财年总营收在300-350亿欧元，其中中国大陆地区营收占比约20%，对应60-70亿欧元的市场规模。
近年来，光刻机成为国际科技博弈的焦点。
2023年6月，荷兰政府颁布出口管制条例，限制了包括EUV设备和特定DUV光刻机的出口。
2024年1月，更是部分撤销了此前部分型号光刻机的出口许可证。
面对这种形势，中国大陆在2023年5月开始加速从ASML进口光刻机。
数据显示，单台光刻机的进口均价从2022年初的1640万美元上升至2023年中期的3800万美元。
各地区的进口数据同样显著：2023年上海、广东、北京、湖北和安徽的光刻机进口金额同比增长均超过100%，部分地区甚至达到了数百个百分点的增长。
市场普遍认为，在当前国际形势下，光刻机产业链的国产化进程将加速推进。
根据海关数据，2023年国内半导体用光刻机进口金额约87.4亿美元，如果实现供应链全面国产替代，仅上游零部件市场空间就约300亿元。
但投资者也需要理性看待这一产业机遇。光刻机产业链复杂，涉及光学、机械、电子等多个领域的尖端技术，从零部件到整机的研发都需要长期积累。
短期内，国内晶圆厂或将继续依赖已储备的DUV光刻机维持生产，同时推动除光刻机外其他半导体设备的国产化进程。
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