近日
国产半导体专用光刻胶领域
实现重大突破！
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该公司科研人员介绍，光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻环节，工作原理类似于照相机的胶卷曝光。
芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘制好电路图。当光线透过掩膜版照射到光刻胶上会发生曝光，经过一系列处理后，晶圆上就会得到所需的电路图。
近期
还有哪些光刻胶相关的大动作？
咱们接着往下看↓
佳先股份联营企业英特美
年产500吨光刻胶单体下线
10月18日，安徽佳先功能助剂股份有限公司联营企业安徽英特美科技有限公司（以下简称“英特美”）年产500吨光刻胶单体对乙酰氧基苯乙烯正式下线。
英特美光刻胶单体项目去年10月底全面开工，经过前期试生产，目前英特美光刻胶单体已产出合格产品。此次该产品的顺利下线，标志着英特美实现了生产端与市场端的有序衔接。
英特美光刻胶单体对乙酰氧基苯乙烯是光刻胶用量最大的一种单体，可用于合成作为光刻胶主要成分的聚对羟基苯乙烯，聚对羟基苯乙烯系列的化学增幅型光致抗蚀剂是目前国际上主流的光致抗蚀剂产品，是用于处理光蚀刻集成电路、制造芯片的关键技术之一。
徐州博康项目公示
年产1406吨光刻材料及152吨光刻胶
近日，关于徐州博康信息化学品有限公司年产1406吨光刻材料及152吨光刻胶技改项目在相关网站公示。
目前，徐州博康实现“单体-树脂、光酸-光刻胶”全产业链覆盖。已成功开发ArF/KrF单体及光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶系列产品近百款。其中，ArF-immersion产品已经适用于28-45nm制程，可扩展至14nm。
徐州博康生产基地位于徐州市邳州经济开发区。新工厂于2021年上半年完成建设，已正式投产，达产后可实现1100吨光刻材料及10000吨电子级溶剂的规模化生产。
▲图源：徐州博康官网
杜邦光刻胶新工厂投产！
产能翻番！
10月4日，杜邦公司位于日本新泻县的Sasakami工厂光刻胶产能扩建项目建成投产。杜邦在Sasakami工厂原有的基础上，新建了一座名为East Star的新工厂，此次扩建使该工厂的光刻胶产能几乎翻了一番。
▲图源：杜邦官网
此外
湃邦（浙江）新材料有限公司
半导体光刻胶项目
8月8日在浙江海宁举行投产仪式
光刻胶身上有什么魅力？
为什么备受“热捧”？
接着往下看↓
光刻胶又名“光致抗蚀剂”，光刻胶具有光化学敏感性，通过利用光化学反应，并经曝光、显影、刻蚀等光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是一种图形转移介质。
光刻胶广泛应用于半导体制造、平板显示屏、PCB（印刷电路板）制造及LED产业等领域。
光刻胶组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。
从成本结构来看，光刻胶树脂成本占比最大接近50%，其次添加剂（单体）成本占比约为35%，光引发剂及其他助剂成本占比15%。
光刻胶树脂是由成膜树脂等构成。成膜树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。
常见光刻胶（包括G线、I线、KrF、ArF、EUV五类）所用树脂类型如下：
▲信息参考：化工新材料；制表：CHINAPLAS。
从市场来看，全球光刻胶供应高度集中，核心技术掌握在日、美等国际大公司手中，日本的JSR、东京应化、住友化学、信越化学及富士胶片占据了全球70%以上的市场份额，加上杜邦，美日6家企业光刻胶的市场占有率接近90%。
目前，中国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平。数据显示，其中KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重，国产化率均仅在1%水平。
西部证券指出，中国半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口，本土厂商虽起步较晚，但目前处于国产化加速期。
彤程新材、华懋科技、晶瑞电材、上海新阳等国内公司均有G/I线、KrF、ArF胶布局。
你还知道哪些布局光刻胶的大佬吗？
欢迎在评论区分享~
END
（素材源自：中国光谷、湖北工信、湖北日报、财联社、科创板日报、化工新材料、DT新材料、慧博资讯、彤程新材等，由CHINAPLAS国际橡塑展综合整理，转载请注明。）
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