近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证。产品工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，下层介质的侧壁垂直度表现优异，成功打破国外技术垄断。
NEWS
长江云新闻官方视频号
监 制：洪燕
审 核：刘开莫 郭晓勇
记 者：王丹 汪佳睿 杨子成
编 辑：文莉
来 源：长江云新闻
近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限公司推出的T150 A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证。产品工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，下层介质的侧壁垂直度表现优异，成功打破国外技术垄断。
NEWS
长江云新闻官方视频号
监 制：洪燕
审 核：刘开莫 郭晓勇
记 者：王丹 汪佳睿 杨子成
编 辑：文莉
来 源：长江云新闻
