重磅突发!国产光刻机,迎里程碑式进步!

文摘   财经   2024-09-15 14:53   上海  
9 月 15 日消息,工信部于 9 月 9 日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024 年版)》通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化氩光刻机(65nm)的内容

我国首台(套)重大技术装备,是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品,包括整机设备、核心系统和关键零部件等。

也就是说:

国产光刻机已取得重大突破,氟化氩光刻机套刻≤8nm。

28nm以上制程的成熟芯片有望实现全流程国产化了!

尽管而国产光刻机目前还处于DUV阶段,但已经接近DUV光刻机的高端行列,也就意味着有可能“吃掉”阿斯麦在中国内地ArF及以下全部的市场。
更重要的是,中国内地在光刻机领域已经具备了快速发展的基础,光刻技术产业链已经初步形成。长期来看,对我们来说0到1的突破,是最关键的!一旦我们有了,那离最先进不过是时间问题。
从工信部公布目录看,包括15大类重大技术装备,除了长期困扰我国芯片产业的光刻机,还有高端工业母机、高端医疗装备、精密仪器仪表等。
光刻机、刻蚀机等芯片生产关键设备取得突破,也就意味着我国芯片制造商在关键设备上有了更先进的国产设备可用,有利于芯片产业链的国产化,也将提升国产芯片的水平,保障供应。
那么,光刻机产业链是否会迎来节后抢筹,核心公司都有哪些呢?
今天为大家整理了A股光刻机产业链核心摘要,详细梳理了光刻机不同环节的上市公司,以及由于依然依赖多重曝光技术来扩充先进制程产能,从而对刻蚀和薄膜沉积设备产生额外的采购需求
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